・半導体製造では欠かすことの出来ない
酸化膜生成プロセスでガスのコントロールを
補助する装置です。

・SiO2ガスの水に溶けやすい性質を利用し
装置内をウォーターカテンで保護し、ガスの
圧力の変化をセンサーで監視しサーボブロアー
にフィードバックします。
これらの協調制御により均一な酸化膜生成を
行うことが出来ます。

・29種類の液体を調合し小型ミキサーに
よる撹拌を行う、撹拌翼は２系統持ち、
それぞれ撹拌洗浄を繰り返す、 大量に
サンプルを作る場合など省力効果が大きい。